“冰刻”|全过程
传统电子束光刻技术的关键步骤。
近日,西湖大学光学工程讲席教授仇旻团队发布三维微纳加工技术。仇旻表示:“现在我们已经可以在光纤末端做出较为复杂的微纳米级‘冰雕’。可在仅有头发丝八分之一粗细的光纤末端进行“冰刻”加工,且能一次性雕刻上百件作品。”
该系列研究陆续发表在《纳米快报》《纳米尺度》《应用表面科学》等期刊上,从精确定位到精准控制雕刻力度,再到以“冰雕”为模具制作结构和加工器件,一套新型三维微纳加工系统雏形初现。
“冰刻”技术,通俗的讲,就是把冰刻成想要的结构和形状,并以此为模具实现其他材料结构的制作。刻冰过程与常见的冰雕类似,但区别在于,仇旻团队使用的刻刀是肉眼看不见的电子束,制造的“冰雕”是微纳米级别的景观。
目前,他们已经可以实现在薄至300纳米的冰上刻画图案,最小的微型雪花直径仅1.4微米,所有比例尺长度均为1微米。
在微纳加工技术中,目前广泛使用的是基于光刻工艺对材料或原料进行微细加工,制作成所需的微纳结构或器件。在这一过程中,光刻胶为非常关键的材料。而仇旻团队所做的就是把光刻胶替换成冰,改称之为“冰胶”,并将使用“冰胶”替代光刻胶完成微纳加工的电子束光刻工艺改称为“冰刻”。据仇旻介绍,目前除他和他的学生,全球同在研究此技术的仅有丹麦另一个实验室团队。
冰刻2.0 一站式、自动化微纳加工系统
从2012年到2018年,仇旻团队用6年时间证实“冰刻”方案行得通。从2012年开始,仇旻团队开始尝试把冰用在电子束光刻技术中,替代光刻胶进行电子束曝光。
2018年,仇旻团队研究表明,在零下140度左右的真空环境下,“冰”能够在原材料表面形成“薄膜”,并且经过电子束加工可以做出简单的三维结构。6年间,仇旻团队也完成了国内首台“冰刻”系统的研发,即“冰刻1.0”,可以实现简单结构和器件的制备。
现阶段,“冰刻”系统已优化到2.0版本。对于“冰刻2.0”,仇旻说,“我们的目标是在未来3~5年实现‘wafer in, device out’的全流程一体化、自动化的一站式微纳加工,也就是一个原材料进去,一件成品器件出来。”
目前,冰刻2.0雏形已经在仇旻实验室初步搭建完成,他们希望,这套冰刻2.0系统可以使微纳加工的全过程在真空环境下完成。仇旻表示,“现在使用冰刻2.0在实验室常用的样品上都能够形成比较复杂的三维结构,如光纤表面、芯片表面等,但和我们自己的期望还有一定距离。”目前,仇旻团队正在把冰刻拓展到更多材料的加工上。
为什么用冰替代光刻胶
谈及用冰替代光刻胶的优势,仇旻给的首选答案是清洁,其次是快速、简便。光刻胶,是微纳加工过程中的关键材料。中国要造芯片,光有光刻机还不够,还得打破国外对光刻胶的垄断。但这样的光刻胶仍有局限性。
仇旻实验室助理研究员赵鼎说:“在样品上涂抹光刻胶,这是传统光刻加工的第一步。这个动作有点像摊鸡蛋饼,如果铁板不平整,饼就摊不好。同时,被抹胶的地方,面积不能太小,否则胶不容易摊开摊匀;材质不能过脆,否则容易破裂。”。
而上述问题在“冰胶”上是不存在的,“我们把样品放入真空设备后,先给样品降温再注入水蒸气,水蒸气就会在样品上凝华成薄薄的冰层。”赵鼎解释道,“无常形”的水蒸气可以包裹任意形状的表面,在凹凸不平和极小的样品上也不成问题;对于非常脆弱的样品,轻若无物的水蒸气也不会对材质造成威胁。
传统电子束光刻技术中,如果想要在硅晶片上,加工两个纳米级别的金属字“春节”,首先需要将光刻胶均匀涂抹在硅晶片表面,再用电子束在真空环境中将“春节”二字写在光刻胶上。
此时,光刻胶上被写入“春节”字样的部分会发生变化,再用化学试剂将“春节”区域的胶洗去之后,光刻胶就会成为一块镂空的“春节”字样模板。最后,把金属材料“打”在镂空区域,再利用化学试剂把晶片表面剩余的光刻胶洗净,这样就完成了金属字“春节”的加工。
而如果用冰替代光刻胶,加工过程也将大大简化。刚刚提到的加工过程中,制造镂空模板需要用化学试剂对光刻胶进行清洗,而使用冰可免去化学清洗的操作。因为当电子束打在冰层上,被打到的冰将直接被气化,同样,“刻字”完成后,冰也无需清洗,改变温度使其融化或升华即可。
此外,仇旻实验室团队访问学生洪宇及其他成员发现,使用冰替代光刻胶进行的微纳加工,加工样品从零下140度的真空环境中返回到室温后,多余的金属材料将自然卷曲并与样品分离,可被轻松吹除。
无需化学试剂清洗这一步骤,使整个过程简便了许多,耗时也就相应减少。仇旻介绍:“在实验室里面,我们使用冰刻2.0系统进行一次微纳加工,目前通常需要半天的时间,复杂的器件不超过一天。而用以前的方法,通常来说要几天或者一个星期。”他补充道,“工业上所有设备完备,可能不需要像实验室研究耗时这么多天,但对比之下,‘冰刻’技术用时肯定是大大缩减的”。
更多实际应用仍在探索
“冰刻”的研究,对于仇旻团队来说,首先是有趣,谈及实际应用,仇旻表示目前还在探索中。
现在仇旻团队正在用冰刻来实现三维作画以及雕塑,仇旻说,“作为一种绿色且‘温和’的加工手段,冰刻尤其适用于非平面衬底或者易损柔性材料,甚至生物材料。未来希望这项技术能够运用到生物、微电子以及更多领域中”。
其实,最初提出把冰用于微纳加工技术上的并非仇旻团队。大约10年前看到哈佛的一篇文章给了仇旻灵感。那篇文章提出,用电子可以在冰上刻划出纳米级别的线条。“这是一项令人激动的新技术”。仇旻说,“我经常和我的学生们说,一件事情有趣其实就够了,如果能有用会更好,既有趣又有用那就完美了。”
从被冰刻技术吸引到实现仪器设备,仇旻团队一做就是8年,目前,该技术仍旧属于冷门研究方向。仇旻笑称,“比南极的冰还冷(实验要在零下140度真空环境进行)。”
虽然冷门,但其价值之高不言而喻。对于该研究,复旦大学物理系主任、超构材料与超构表面专家周磊教授评论称,这项工作对于研发集成度更高、功能性更强的光电器件具有重要的现实意义。“冰刻”可将光学前沿的超构表面与已经广泛应用的光纤有机结合,既给前者找到了合适的落地平台,又让后者焕发了新的生机。
2012年,仇旻从瑞典皇家工学院回国任教,随后开启“冰刻”研究计划。入职西湖大学后,仇旻在国家自然科学基金委重大科研仪器研制项目的支持下,开始研发功能更加强大的“冰刻系统2.0”。
谈及自己的研究,他表示,“这样的探索,有可能带来很大的突破,也有可能什么都没有,但这正是基础研究的意义和乐趣所在。”而在中国从制造业大国向制造业强国的转变中,探索和创新以微纳加工为代表的超精密加工,正是中国制造的未来方向之一。